工业锅炉常用的锅外化学处理的是()交换法。
A、钠离子;
B、氢离子;
C、负离子;
D、正离子
金属导体的电阻是由于导体内的()引起的。
A、自由电子运动
B、原子运动
C、正离子运动
D、自由电子和正离子碰撞
低压锅炉的出口主蒸汽压力为(),可用于()。A.≤3MPa,工业锅炉B.≤2.MPa,电站C.≤2.45MPa,工业锅炉D.≤2.45MPa,热电站