2001年7月6日,国家计委正式批复,在东湖新技术开发区建立国家光电子产业基地——即武汉·中国()。目前,武汉·中国()已成为我国在光电子信息领域参与国际竞争的标志性品牌。
A.光谷、光谷
B.东湖、东湖
C.高新、高新
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2001年7月6日,国家计委正式批复,在东湖新技术开发区建立国家光电子产业基地——即武汉·中国()。目前,武汉·中国()已成为我国在光电子信息领域参与国际竞争的标志性品牌。
A.光谷、光谷
B.东湖、东湖
C.高新、高新
关于光电效应的正确结论是( ).
A、逸出的光电子的最大初动能与入射光的频率成反比
B、逸出的光电子的最大初动能与入射光的强度成正比
C、单位时间里,从金属表面逃逸出的光电子数目与入射光频率成正比
D、在同种光照射时,单位时间里,从金属中逃逸出的光电子数目与入射光的强度成正比
2001年7月6日,国家计委正式批复,在东湖新技术开发区建立国家光电子产业基地——即武汉·中国()。目前,武汉·中国()已成为我国在光电子信息领域参与国际竞争的标志性品牌。
A.光谷、光谷
B.东湖、东湖
C.高新、高新